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简述流体抛光机设备的抛光盘运行模式控制：
由于四变频电机能在加工过程快速改变抛光盘和工件的相对转速，同时也可通过数字阀调节气缸位置改变加工过程中的抛光压力，所以可以突破传统的抛光工艺中抛光压力、抛光速差的限制，设计流体抛光机抛光盘运行模式，它分为启动、预抛、粗抛、精抛、光抛、制动及变速阶段。运行模式中分阶段精确变化的压力对易碎的工件的直接作用力是很温和的，它作用一个“轻触”的载荷在较厚的工件上，使工件厚度开始变化。可编程的软起动速度控制可以防止易碎的工件摇晃，减少边缘的破碎。软停止的排序使上抛光盘脱离来减少或消除一直黏在上抛光盘上工件的残余量。
根据抛光盘运行曲线的不同阶段，建立了一套适合不同情况的控制规则，编写成运行软件控制抛光盘的运行。抛光盘转速采用软件预计算，在制动前流体抛光机抛光盘的速度降速为0. 42rad/s,最终位置采用12位绝对值光栅精确检测，临近终点时，让抛光盘处于惯性运行，进一步降低抛光盘转速，到达终点位置时迅速制动电机。此时抛光盘的转速已很低，不会对工件造成大的冲击。
